通过一些“黑科技”，比如多重曝光技术，可以将制程推进到14nm甚至更小，但这会极大地增加工艺复杂度、生产周期和成本，并对良率构成严峻挑战。

良率每降低一个百分点，都意味着巨额的金钱损失。

也就是说，接下来几年，想办法把28nm级别的芯片搞定，然后配合国外的各种操作，有机会把2016年的技术，在2018年之前在华国搞定。